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技術(shù)文章
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    X 射線熒光測(cè)試儀
    型 號(hào):XDV -μ
    品 牌:德國(guó)菲希爾Fischer
    技術(shù)指標(biāo):可以對(duì)100μm或更小的結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析
    文山X 射線熒光測(cè)試儀-XDV -μ-德國(guó)菲希爾Fischer

    X 射線熒光測(cè)試儀,壁厚儀,配有多毛細(xì)孔 X 射線光學(xué)系統(tǒng),d4涂層測(cè)厚儀,可自動(dòng)測(cè)量和分析微小部件及結(jié)構(gòu)上鍍層厚度和成分。


    XDV-u鍍層厚度測(cè)量?jī)x特點(diǎn)

    • 優(yōu)化的微區(qū)分析測(cè)試儀器
    • 根據(jù)X射線光學(xué)系統(tǒng),epk 涂層測(cè)厚儀,可以對(duì)100 μm或更小的結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析
    • 極高的能量強(qiáng)度,電鍍層測(cè)厚儀,從而實(shí)現(xiàn)出色的精度
    • 即使對(duì)于薄鍍層,進(jìn)口涂層測(cè)厚儀,測(cè)量的不確定度也有可能做到 < 1 nm
    • 只適用于平面的或是接近平面的樣品
    • 底部C型開(kāi)槽的大容量測(cè)量艙
    • 通過(guò)快速、可編程的 XY 工作臺(tái)進(jìn)行自動(dòng)測(cè)量

    XDV-u鍍層厚度測(cè)量?jī)x典型應(yīng)用領(lǐng)域

    • 測(cè)量印刷線路板、引線框架和芯片上的鍍層系統(tǒng)
    • 測(cè)量細(xì)小部件和細(xì)電線上的鍍層系統(tǒng)
    • 分析微小結(jié)構(gòu)和微小部件的材料成分


    同類(lèi)產(chǎn)品
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